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2010國際商標標志雙年獎征集
北京 2010國際商標標志雙年獎 時間:09月30日截止 地點:北京市朝陽區酒仙橋路4號798藝術區E區尤倫斯東側三層 兩年一度的國際商標標志雙年獎是ICOGRADA認可的國際性設計獎項,也是商標節的重要活動之一。歷屆評審團均由國際著名設計大師組成,其中有ICOGRADA- 2.4k
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2010國際商標標志雙年獎征集
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